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基础信息Product information
产品名称:

反应离子刻蚀机/其他

产品型号:NRE-4000

厂商性质:生产厂家

所在地:北京市

更新日期:2023-05-16

产品概况:

反应离子刻蚀机/其他是一款式PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载。腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断。

产品特性Product characteristics
品牌华测

反应离子刻蚀机

概述:

   NRE-4000反应离子刻蚀机是一款式PE刻蚀RIE刻蚀一体机,配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13"的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载腔体有两个端口:一个带有2"的视窗,另一个空置用于诊断该系统可以支撑到12"的晶圆片。腔体为超净设计,并且根据配套的真空泵可以达到10-6 Torr 或更小的极限真空。该系统系统可以在20mTorr到8Torr之间的真空下工作。真空泵组包含一个节流阀,一个250l/s的涡轮分子泵,滤网过滤器,以及一个10cfm的机械泵(带Formblin泵油).RF射频功率通过600W,13.56MHz的电源和自动调谐器提供。系统将持续监控直流自偏压,该自偏压可以高达-500V.这对于各向异性的刻蚀至关重要。

原理:

   NRE-4000是基于PC控制的全自动系统.系统真空压力及DC直流偏压将以图形格式实时显示,流量及功率则以数字形式实时显示.系统提供密码保护的四级访问功能:操作员级、工程师级、工艺人员级,以及维护人员级.允许半自动模式(工程师模式)、写程序模式(工艺模式), 和全自动实行程序模式(操作模式)运行系统。基于全自动的控制,该系统具有高度的可重复性。

主要用途

介质薄膜干法刻蚀,包括SiO2、Si3N4、SiON、SiC等

产品特点:

铝质腔体或不锈钢腔体

不锈钢立柜

支撑各向同性刻蚀和各向异性刻蚀两种模式

能够刻蚀硅的化合物(~400 /min)以及金属

典型的硅刻蚀速率,400 /min

高达12"的阳极氧化铝RF样品台

水冷及加热的RF样品台

大的自偏压

淋浴头气流分布

极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别

涡轮分子泵

NRE-3000支撑4个MFC,NRE-4000支撑8个MFC

无绕曲气体管路

自动下游压力控制

双刻蚀能力:RIE以及PE刻蚀(可选)

终点监测

气动升降顶盖

手动或自动上下载片

预真空锁

基于LabViewApp的PC计算机全自动控制

菜单驱动,4级密码访问保护

*的安全联锁

可选ICP离子源以及低温冷却样品台,用于深硅刻蚀

技术指标:

气体种类:O2、CF4、CHF3、SF6、BCl3

基片尺寸:大支撑8英寸,并向下兼容6、5、4、3、2英寸等以及破片

射频电源    

ICP电源:13.56MHz,1400W; 偏压电源:13.56MHz,800W

工艺温度:10℃到80℃可控      

传送模式:自动Loadlock传送系统

其他产品:

NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的式系统,占地面积26“D x 44"W

NRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型式系统,占地面积26“D x 26"W

NRE-3000:基于PC计算机全自动控制的台式系统,占地面积26“D x 26"W

NRP-4000:RIE/PECVD双系统

NDR-4000:深RIE刻蚀(深硅刻蚀)系统

反应离子刻蚀机/其他

反应离子刻蚀机/其他


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